بررسی اثر نقص شبکه ،تنش وکشش بر روی خواص فیزیکی گرافن

گرافن یکی از مواد کریستالی دو بعدی است که در سال های اخیر شناسایی و تحلیل شده اند. این ماده ی جدید ویژگی های منحصر به فرد زیادی دارد که این امر باعث می شود آن را برای مطالعات اساسی و کاربردهای آینده به ماده ای جالب مبدل سازد. دینامیک مولکولی یکی از شاخه های فیزیک محاسباتی است. در این روش برهمکنش میان اتم ها و مولکول ها در بازه هایی از زمان بر اساس قوانین فیزیک، به وسیله کامپیوتر شبیه سازی می شود. نرم افزار لمپس نیز یک نرم افزار دینامیک مولکولی است که از طریق آن می توان شبیه سازی ها را اجرا نمود. در این تحقیق ما صفحات گرافن را در دو ساختار زیگزاگی و آرمچیری با استفاده از کد های لمپس، شبیه سازی و نقص های یک جای خالی sv ، دو جای خایdv و نقص استون ولز sw را با درجات مختلف در آن ها ایجاد کردیم، سپس مدول یانگ و مدول برشی صفحات ایده آل و دارای نقص را با اعمال کشش و برش از طریق شبیه سازی با نرم افزار لمپس بر این صفحات، محاسبه نمودیم. با توجه به داده های بدست آمده، مدول یانگ و مدول برشی با افزایش درجه نقص و همچنین نوع نقص های ایجاد شده کاهش می یابد. در انواع نقص ها، کمترین کاهش را در نقص sw و بیشترین کاهش را در نقص sv داریم. کاهش مدول ها به معنای کاهش استحکام صفحات می باشد. لذا با تعیین نوع و درجات نقص در صفحات می توان صفحات گرافنی با استحکام معین ایجاد نمود..